金融界4月10日消息，有投资者在互动平台向扬帆新材提问：你好董秘:公司申请了专利，申请日期：2024-03-22 申请号CN202311776701.X公开（公告）日：2024-03-22 公开（公告）号CN117742074A公司申请了一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法、应用，能到否介绍一下这种专利，请问这种专利能否用到，半导体多重曝光工艺谢谢？

公司回答表示：我们开发的该项目目前只可在飞秒加工增材制造的基础上实现二次减材加工曝光雕刻，研究仍停留在实验室研究阶段，离产品工业化还需要较长的过程，存在诸多不确定因素，请投资者注意投资风险。