重磅！全国首台国产商业电子束光刻机突破性问世，精度比肩国际，产业链或将全面腾飞！

近日，全国首台国产商业电子束光刻机"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试阶段。该设备精度达到0.6nm，线宽8nm，专攻量子芯片和新型半导体研发的核心环节，可通过高能电子束在硅基上"手写电路"，无需掩膜版即可灵活修改设计，其精度已比肩国际主流设备。这标志着我国量子芯片研发从此有了"中国刻刀"。

近期我国在光刻机领域捷报频传。我国自主研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备成功交付国内客户，可支持线宽小于10nm的纳米压印光刻工艺，技术指标超越国际巨头佳能同类产品。此外，国家第三代半导体技术创新中心在氮化镓/碳化硅集成领域取得突破性进展，首次研制出商用8英寸4°倾角4H-SiC衬底上的高质量氮化铝镓/氮化镓异质结构外延。

这些进展将对以下板块产生重大影响：

1、光刻胶及原材料：

光引发剂等核心材料需求增加

国产替代进程加速

2、半导体设备：

光刻机配套设备需求提升

本土化率提升带来发展机遇

3、特种气体：

光刻工艺用特种气体需求增长

进口替代空间扩大

相关上市公司梳理：

1、华特气体（688268）：国内领先的特种气体制造商，具备光刻气体量产能力

2、中船特气（688146）：专注高纯特种气体研发生产，是光刻机用气体重要供应商

3、凯美特气（002549）：拥有特种气体核心技术，产品应用于光刻工艺

4、芯碁微装（688630）：从事光刻设备研发制造，具备直写光刻系统技术

5、洪田股份（603800）：专注光刻胶配套材料研发，具备规模化生产能力