“我手里有两台ASML的光刻机，有需要的联系我”，今日，一家券商研究所副所长、电子首席分析师发了这样一条朋友圈。随即引来业内关注。

　　基于此前券商分析师们纷纷拆车写研报，对此，有网友评论戏称“不拆了写报告 可惜了”。

　　资料显示，光刻机是实现光刻工艺的关键设备，光刻机将掩膜版上的电路结构图复制到硅片上，启动芯片生产。光刻机设备是所有半导体设备中复杂度最高、精度最高、单台价格最高的设备。光刻机是现代工业的集大成者，其难度包括激光光源、物镜系统、机台设计等等。光刻机主要分为EUV光刻机、DUV光刻机。EUV是最高端的光刻机，其研发周期长达十余年，是光刻机皇冠上的明珠。

　　ASML一般指荷兰ASML公司，即阿斯麦，是全球最大的半导体设备制造商之一。全球光刻机行业由荷兰的ASML、日本尼康和佳能三家把持，ASML独占鳌头，在光刻机市场占有垄断性的地位，其生产的DUV和EUV光刻机在中高端光刻机市场占据绝对性的优势。

　　当前我国半导体设备主要集中在热处理/氧化扩散、去胶、PVD和刻蚀等领域，当前中国半导体设备产品主要集中在热处理/氧化扩散设备、去胶设备、PVD和刻蚀设备，对于工艺相对复杂的道次所需的半导体设备（如光刻机、离子注入设备和过程控制设备），国产化率则仍处于低位。

　　虽然我国的光刻技术落后于先进国家，不过，近年来，在国家政策的扶持下，我国光刻机技术也开始了飞速的发展，上海微电子目前已可量产90nm分辨率的ArF光刻机，28nm分辨率的光刻机也有望取得突破。