金融界网站讯，光刻胶概念开盘后大幅拉升，高盟新材涨停，赛微电子、捷捷微电、安集科技等多股大涨。

　　光刻胶是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、x射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。光刻胶以及光刻胶配套材料是半导体制造材料所需各类功能性化学品中占比最大，技术壁垒最高的产品。

　　光刻胶按应用领域分类，主要分为半导体、面板和PCB（印制电路板）用光刻胶，且难度依次降低。目前，中国本土光刻胶以PCB用光刻胶为主，平板显示、半导体用光刻胶供应量占比极低。

　　光刻胶是集成电路制造的重要材料，光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。半导体用光刻胶按不同制程可分为EUV（极紫外光）光刻胶、ArF（193nnm）光刻胶、KrF（248nm）光刻胶及G线（500nm以上）、i线（350nm-500nm）光刻胶。

　　国元证券称，光刻工艺的成本约占整个芯片制造工艺的35％，耗时占整个芯片工艺的40％~60％，是半导体制造中的核心工艺。光刻胶材料约占IC制造材料总成本的4％，是半导体集成电路制造的核心材料。